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等離子體清洗機(jī)
等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì), 不存在使用液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時(shí)真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時(shí)間的清洗就可以使污染物被徹底地清洗掉, 同時(shí)污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。
等離子體是由Sir William Crookes在1879年發(fā)現(xiàn)的。而等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于工業(yè), 源于20世紀(jì)初。并且隨著等離子體物理研究的深入, 其應(yīng)用越來(lái)越廣, 目前已在眾多高科技領(lǐng)域中, 居于關(guān)鍵技術(shù)的地位。等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類(lèi)文明影響最大的, 首推電子資訊工業(yè), 尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。
目前已廣泛應(yīng)用的物理化學(xué)清洗方法, 大致可分為兩類(lèi):濕法清洗和干法清洗。干法清洗中發(fā)展較快、優(yōu)勢(shì)明顯的是等離子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)開(kāi)始普遍應(yīng)用。濕法清洗要大量使用酸堿等化學(xué)物質(zhì), 而且清洗后產(chǎn)生大量的廢氣、廢液。當(dāng)然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據(jù)主導(dǎo)地位。但是從對(duì)環(huán)境的影響、原材料的消耗來(lái)看, 干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗, 更應(yīng)是未來(lái)清洗方法的發(fā)展方向。
我司從事等離子體清洗行業(yè)已經(jīng)二十年，是國(guó)內(nèi)最早一批從事真空及大氣低溫等離子體（電漿）技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，隸屬于東信高科等離子科技（香港）控股有限公司，總部設(shè)于香港 。公司目前生產(chǎn)的等離子清洗設(shè)備有，大氣等離子體清洗機(jī)，真空等離子體清洗機(jī)，線性輝光等離子體清洗機(jī)，F(xiàn)PC/PCB 等離子刻蝕機(jī)。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于微波印制電路、FPC、觸摸屏、LED、wire$DieBonding、醫(yī)療行業(yè)、培養(yǎng)皿處理、材料表面改性及活化等領(lǐng)域。歡迎廣大新老客戶(hù)致電咨詢(xún)。
