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等離子清洗機(jī)
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等離子清洗機(jī)里面各種氣體的清洗作用

因?yàn)榈入x子清洗處理的材料不一樣,要求也不同,對(duì)于處理每一種工藝,都會(huì)選擇對(duì)應(yīng)的氣體,并且根據(jù)清洗的程度,調(diào)整輸入氣體的比例,清洗的停留時(shí)間等參數(shù)。目前等離子清洗機(jī)里面常用的氣體有空氣、氧氣、氬氣、氫氣、氬氫混合氣體、cf4等。每一種氣體的特性都不一樣,清洗帶來(lái)的效果也不相同。有的還會(huì)選用混合氣體,即把多種氣體混合在一起使用,以達(dá)到最好的清洗效果。

那這些清洗工藝氣體都是怎么配比的呢?這個(gè)其實(shí)是很大公司的秘密,每個(gè)公司都會(huì)有自己的一套清洗工藝,然后去調(diào)整測(cè)試的,今天我給大家講的是各種氣體的特性,讓大家對(duì)于等離子清洗機(jī)的各種氣體有一個(gè)了解。


氫氣的主要作用是用來(lái)的金屬表面的氧化物做清理,其清洗的過(guò)程其實(shí)是化學(xué)還原反應(yīng),氫氣離子和金屬表面的氧氣離子化學(xué)反應(yīng)變成水氣。

 

氧氣離子是用來(lái)清洗材料表面的有機(jī)化合物,通過(guò)對(duì)有機(jī)化合物的氧化發(fā)生反應(yīng)達(dá)到清洗的目的。氬、氦、氮等非反應(yīng)氣體。氮處理可提高材料的硬度和耐磨性。氬和氦氣體特性平穩(wěn),分子的充放電工作電壓低非常容易產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)分子,一方面,運(yùn)用其高能粒子的物理學(xué)功效來(lái)清理易被氧化或還原物件。

Ar+轟擊污物產(chǎn)生揮發(fā)物化學(xué)物質(zhì)污染物會(huì)從真空泵抽離出來(lái),以防止表層化學(xué)物質(zhì)的反應(yīng)。氬非常容易產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)分子,與氧原子撞擊時(shí)產(chǎn)生正電荷變換和再重組。在plasma清洗設(shè)備中應(yīng)用純氫是效率很高的,但考慮到了充放電的可靠性和安全系數(shù),在等離子清洗設(shè)備中也可以應(yīng)用氬氫化合物。此外,還可以采用反向氧氣和氬氫氣的清洗順序,這種清洗機(jī)具有易氧化、易還原的特點(diǎn)。

1)氬氣:物理學(xué)轟擊表面是氬氣清理的原理。氬是有效的物理學(xué)plasma清理氣體,因?yàn)樗脑哟笮。苡梅浅4蟮哪芰看蛑挟a(chǎn)品表層。正氬正離子會(huì)被負(fù)極板吸引住,撞擊力得以除去表層的一切污漬。隨后這種氣體污染物會(huì)隨著泵排出。

2)氧氣:與產(chǎn)品表層化學(xué)物質(zhì)是有機(jī)化學(xué)反應(yīng)。比如,氧能夠合理地除去有機(jī)化學(xué)污染物,與污染物產(chǎn)生反應(yīng),形成二氧化碳、一氧化碳和水。一般來(lái)說(shuō),化學(xué)反應(yīng)很容易除去有機(jī)污染物。

3)氫氣:氫可用以除去金屬表層氧化物。它常常與氬混合以提升去污能力。大家廣泛關(guān)心氫的易燃性性和氫氣儲(chǔ)存使用問(wèn)題,我們可以用氫產(chǎn)生器從水里造成氫。除去潛在性的傷害。

4)cf4/sf6:氟化氣體主要是用來(lái)線(xiàn)路板上面的,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)將氧化物轉(zhuǎn)換為氯化物,用在半導(dǎo)體材料和pcb(印刷線(xiàn)路板)等工業(yè)生產(chǎn)

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